簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "機械工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="化學機械平坦化/拋光"


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    運用動態量測系統進行拋光墊之修整模型建立與線上量測分析研究
    • /109/ 博士
    • 研究生: 李人傑 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械平坦化/拋光(CMP)製程在半導體製造產業中扮演著不可或缺的角色。拋光墊與研磨液為其中最關鍵的兩種耗材,在CMP製程中拋光墊承載著研磨液,使其可均勻分布在晶圓表面,同時提供了機械研磨力。隨著…
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    • 全文公開日期 2024/08/30 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/08/30 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/08/30 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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